Фотолитография в глубоком ультрафиолете

Фотолитография в глубоком ультрафиолете (Extreme ultraviolet lithography, EUV, EUVL — экстремальная ультрафиолетовая литография) — вид фотолитографии в наноэлектронике. Считается одним из вариантов фотолитография следующего поколения. Использует свет экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13,5 нм.

Источник: Википедия

а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ э ю я