Ультрафиолетовая литография

Ультрафиолетовая литография (англ. ultraviolet lithography) — нанотехнология электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) фоторезиста «глубоким» (deep ultra violet — DUV) или «жестким» (extreme ultra violet — EUV) ультрафиолетовым излучением.

Источник: Википедия

а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ э ю я