Ультрафиолетовая литография Ультрафиолетовая литография (англ. ultraviolet lithography) — нанотехнология электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) фоторезиста «глубоким» (deep ultra violet — DUV) или «жестким» (extreme ultra violet — EUV) ультрафиолетовым излучением. Источник: Википедия