Осаждение атомных слоёв

Осаждение атомных слоёв, или атомно-слоевое осаждение; молекулярное наслаивание (англ. atomic layer deposition или англ. atomic layer epitaxy сокр., ALD; ALE) — технология нанесения тонких плёнок, основанная на последовательном использовании самоограниченных химических реакций для точного контроля толщины нанесенного слоя.

Источник: Википедия

а б в г д е ё ж з и й к л м н о п р с т у ф х ц ч ш щ э ю я